光刻胶

krF(248nm)厚膜光刻胶产品成功取得首笔订单，定增助力 KrF&ArF 光刻胶实现量产，持有38%股权的子公司芯刻微购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台

02专项ArF光刻胶研发顺利结项，募投配合实现产业化，目前已完成25吨光刻胶生产线建设，已在下游客户存储芯片50nm和逻辑芯片55nm技术节点的产品上通过认证，同时多款产品正在多家客户进行认证，持续推动光刻胶及配套材料产品的研发、验证和产业化。

国内龙头之一年产1000吨光刻材料（700吨光刻胶+300吨配套化学品）

子公司苏州瑞红是国内最早开始研制半导体光刻胶的厂商，已实现 G/I 线量产，KrF 胶实现小额销售，并已购入 ArF 光刻机加快进行 ArF 胶研发

nm光刻胶２次使用的清洗试剂都提供，都是量产

PCB光刻胶光引发剂供货世界顶级干膜厂商，KrF光刻胶用光酸、光酸中间体及聚合物(量产)

紫外固化和电子化学品龙头，TFT-LCD 光刻胶产能待释放

目前国内唯一拥有并正常使用荷兰ASML光刻机的光刻胶公司，是国内光刻胶龙头

公司的湿电子化学品可用于光刻胶基材

公司CF光刻胶产品用于平板显示领域，已成为华星光电合格供应商

并购布局面板&IC光刻胶，募投项目加码高端市场

通过并购北京科华实现半导体光刻胶业务布局，北京科华在国内 G 线胶和 I 线胶市场份额处于相对领先位置，KrF 胶已量产，且在Poly、AA、Metal 等关键层工艺实现重大突破，规模处于国内领先

参股子公司徐州博康是国内半导体光刻胶领先企业，已实现 I 线胶和 KrF 胶批量生产，有多款高端光刻胶产品分别获得了国内12寸晶圆厂的相关订单，包括ArF-immersion产品及ArF-dry，KrF，I-line等。其中，ArF-immersion产品已经适用于28-45nm制程。

子公司大晶新材已完成多款i-线半导体光刻胶配方的研发 正在进行重点客户的送样验证工作

公司与台湾廣至合作研究开发紫外光型正型光刻胶已有产品通过中国台湾地区客户小试成功

公司拟利用现有闲置厂房及设备生产4个系列光刻胶产品，年生产规模 65吨，计本次光刻胶产品中包含 KrF、ArF 线系列产品