南大光电 (300346)

实时短评:ArF193nm 光刻胶
核心题材:MO 源、半导体前驱体、电子特气、ArF 光刻胶
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题材关联原因
02专项ArF光刻胶研发顺利结项,募投配合实现产业化,目前已完成25吨光刻胶生产线建设,已在下游客户存储芯片50nm和逻辑芯片55nm技术节点的产品上通过认证,同时多款产品正在多家客户进行认证,持续推动光刻胶及配套材料产品的研发、验证和产业化。
控股子公司宁波南大光电获大基金二期增资1.83亿元
公司三甲基镓产品可以作为生产氧化镓的原材料。
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