【申万电子】国产算力基石—首台DUV光刻机进入测试2025/9/17
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光刻是半导体设备国产率最低环节。继2024年工信部披露65nm ArF光刻机(对标ASML1460K)后,国产GKJ再迎突破: 据《金融时报》,中芯国际正在测试中国首款国产先进芯片生产设备。 据上证报,中芯国际正在测试上海宇量昇的浸没式深紫外光刻机。 #GKJ产业链: 福晶科技、腾景科技、茂莱光学、汇成真空、炬光科技、波长光电 #整机: 芯源微(涂胶显影)、芯碁微装(激光直写)
光刻是半导体设备国产率最低环节。继2024年工信部披露65nm ArF光刻机(对标ASML1460K)后,国产GKJ再迎突破: 据《金融时报》,中芯国际正在测试中国首款国产先进芯片生产设备。 据上证报,中芯国际正在测试上海宇量昇的浸没式深紫外光刻机。 #GKJ产业链: 福晶科技、腾景科技、茂莱光学、汇成真空、炬光科技、波长光电 #整机: 芯源微(涂胶显影)、芯碁微装(激光直写)
来源:xiaozuowen日期:2025-09-17