前道光刻机搞定了！
工信部首台套设备推广名单，包括两款光刻机，其中193nm光刻机分辨率小于65nm，套刻精度小于8nm。
这款光刻机套刻距离ASML的最新款DUV 2100还有差距，2100的套刻精度是小于2.5nm。
但是，大部分芯片制程都是28nm，甚至65nm以上，比如汽车半导体，家用电器半导体，玩具半导体等等，那么这两款光刻机就能满足了。
更关键的一点，前道光刻机是芯片制造的核心，整个生产线围绕光刻机打造，美国早把中国光刻机制造企业拉入黑名单，那么配套的企业只能是中国企业，也就是说，65nm以上的新的芯片生产线，基本上是全国产设备了。
未来这部分产业链会聚集到中国，也就是中国低端芯片的制造成本会成为洼地，当然美国已经给出了针对措施，美国政府9月13日确定大幅度上调中国产品的进口关税，其中将中国半导体的进口关税提高50%。