《中科院：电子加速器同步光源》中国光刻机的未来
清华大学走的光刻机路线加速器带动的超大型基建型光工厂，
中广核技000881：电子加速器、粒子加速器中国的龙头企业，一旦
成功直接1nm去了，用超大型x光做光源一旦成功确实逆天
000881中广核技： 电子加速器 同步光源
中国核心龙头企业---光刻机的希望
国内已经在搞电子加速器一样的光源做光刻机光源，如果成功中国光刻机技术立刻进入2纳米以下，弯道超车西方技术。个人一直觉得，荷兰光刻机为了卖给其它国家，在光刻机设计上有妥协，为了方便运输，用集装箱大小限制光刻机设计。而中国是世界工厂，本地建造光刻机没有这个顾虑。可以利用核工业技术搞几千亩地建造光刻机光源系统。而在核工业技术上中国已经是世界领先利用核工业技术，输出功率强大的高能粒子还是x光，都没有问题。剩下只有光源提纯一个难点。
比起用集装箱限制光源系统大小来说，这个难度理由低很多
粒子加速器(中广核技、国力股份，粒子加速器相当于光的动力装置）--->高能同步辐射光源（射频腔：东方钽业、西部材料；高次模抑制器：国光电气；HEPS特种电缆：宝胜股份；
第四代同步辐射光源就特么是为 EUV光刻而生的!
1，同步辐射光源目前已经在建的是第四代
。2，四代同步辐射光源的特点是: -占地小(当然还是很大的，足球场);-输入能量大为减少;-输出光源亮度更大(四代完全达到光刻需求);-频率可以精准控制，可以只输出13.5纳米的EUV(这一点以前是不行的，以前频谱是连续的);一可以连续稳定工作(二代已经母天15小时，每年5000小时)。
3，EUV从同步辐射光源出来就是高度平行光，连光路可以省去，直接掩膜曝光。
4，DUV对光刻胶挑肥拣瘦，十分敏感;但EUV可以固化一切遇到的光刻胶，不挑食。
5，我国建造一座三代同步辐射光源的投入是12亿元;一台阿斯麦 EUV光刻机是一亿美元，7亿人民币。更劲爆的是:
四代同步辐射光源输出更短波长的 EUV，如3纳米，那是轻轻松松的事情（摘自知乎空一格）
RMW北京6月9日电（记者赵竹青）记者从中国科学院高能物理研究所获悉，6月5日，国家重大科技基础设施高能同步辐射光源（HEPS）直线加速器通过了工程指挥部组织的工艺验收。
HEPS直线加速器是电子的源头和一级加速器，建设团队提前规划，认真组织，基本按计划完成了建设任务。HEPS工程总指挥潘卫民说，为了更好的优化直线加速器束流参数，提高增强器和储存环建设和调束的效率，更好地完成HEPS装置建设任务，工程指挥部加强过程管理，组织直线加速器专项工艺测试和验收。
工艺验收组由詹文龙、陈森玉、陈和生、夏佳文、赵红卫、赵振堂、邓建军、封东来、唐传祥、刘克新、王东、何源等加速器领域的院士及专家构成，验收组听取了HEPS直线加速器负责人李京祎关于直线加速器设计、设备研制、安装、调束等建设情况的汇报，工艺测试组组长陈怀璧工艺测试情况的汇报。经过认真讨论和评议，验收组一致认可工艺测试结果，各项指标全部达到或优于批复的验收指标，总体性能达到同类设备国际先进水平，同意HEPS直线加速器通过工艺验收。
