目前国内有三条EUV光刻机研发路线，突出一个我全都要，饱和式研发，不计成本 [酷]
1.正统路线，也就是ASML的EUV光刻机路线。HW+上海光机所+宇量昇，国家队，走500W LPP光源+复杂镜头组的技术路线。现在进度最快，技术复杂度相对最高，特别是超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器技术难度非常高。进度保密 [阴险]
2.改进型路线。广东智能机器研究院(广智院)+华中科技大，他们在尝试一种采用分时高功率光纤激光器射击液态锡靶的方式绕开超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器的技术路线。如果他们那个400路光纤激光器能够成功，将是使用二氧化碳激光器的LPP光源功率的数倍。何时成功还是未知
3.颠覆式路线。清华大学主导的1千瓦级SSMB-EUV光源，直接把光刻机光源变成基础设施--同步辐射光源。直接把光源变成类似工业园中的电力、蒸汽、纯水等可购买原料。比如：深圳产业光源系统规划了EUV光刻线站和EUV检测线站等合计四条光束线，六个实验站。
这条技术路线如果成功，可以秒杀上面两条路线。光源外置、极大简化的光路直接把EUV光刻机变成体积大，但是成本相对较低的批量产品。且更匹配中国极高的基础设施建设能力
个人观点：从2020年10月国内启动举国体制加速研发后，光刻机研发进度极快。第一条技术路线的EUV光刻机将在2~3年内量产。第三条的技术路线是未来第2代、第3代EUV光刻机的优势路线，也是中国光刻机技术赶超ASML的关键